山奈素分子印记聚合物的制备及识别性能研究

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2011-09-19
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于兰哲,曲丹,贠延滨
(北京林业大学 环境科学与工程学院,北京 100083)

  摘  要:采用分子印记技术,以山奈素为模板分子,4-乙烯基吡啶(4-VP)为功能单体,乙二醇二甲基丙烯酸酯(EDMA)为交联剂,偶氮二异丁氰(AIBN)为引发剂,在CHCl3-DMF(体积比3∶1)的溶剂体系中合成了含碱性功能基团的分子印记聚合物。通过红外光谱及扫描电镜(SEM)对聚合物进行表征,并研究印记聚合物对山奈素的吸附性能及机理。静态吸附实验结果表明:该分子印记聚合物对山奈素具备良好的吸附能力,经Scatchard模型分析印记聚合物存在对模板分子均一的结合位点,其最大表观吸附量(Qmax)为3 938 μg/g,平衡解离常数(KD)9.074 mg/L。选择性实验表明,分子印记聚合物在山奈素-芦丁体系中的分离因子达到3.24。

  关键词:分子印记聚合物;山奈素;特异识别;吸附性能

  中图分类号:TQ351

   文献标识码:

  文章编号:0253-2417(2011)04-0019-06
 


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